麒麟芯片终于要谢幕了。
华为余承东已经表示，麒麟芯片将在九月份停产。曾经辉煌的麒麟芯片终于要暂时告别了。这背后也说明华为是真的遇到困难了。台积电和三星等各大半导体企业都不在代工，麒麟芯片也只能停产了。不过，余承东也表示，现在华为已经在半导体全方位扎根。誓要突破精密制造的技术瓶颈。最关键的光刻机，华为也在加大材料和技术的投入。这也就意味着华为只是暂时停产麒麟芯片。一旦华为掌握核心技术，会再次自主生产麒麟芯片。现在华为也在下决心不惜代价，也请来了专业人才。为的就是早日突破技术瓶颈，自主生产麒麟芯片。而这样人才，资金和决心都齐备的华为，定能早日迎回麒麟芯片。
我国目前的光刻机水平如何？
我国目前光刻机的最高水平是上海微电子生产制造的90nm光刻机。而世界顶尖的光刻机是ASXML生产的7nm，甚至是5nm EUV 光刻机。相对来说，我国在光刻机制造领域与国际先进水平还有很大差距。高端光刻机几乎全部依赖进口。据国内媒体报道的消息，上海微电子预计将在2021年交付首台28nm的光刻机。差距正在逐渐缩小，上海微电子也正在全力追赶。这种顶尖光刻机的研发，需要长期的技术积累才能实现突破。绝不是一蹴而就。
顶级光刻机。
世界上最先进的光刻机是EUV 光刻机。只有荷兰的ASML能够生产，光刻机的技术门槛极高，可以说是人类智慧集大成的产物。
荷兰ASML 拥有6000多名科技人员。90%的关键设备均自外来。德国的光学设备和超精密仪器。以及其他核心配件。还有美国的计量设备和光源设备。而ASML 要做好的就是精确控制。将误差分摊到光刻机的13个分系统，3万多个分件。换句话说，如果德国的蔡司镜头做的不准。美国的cymer 光源不精确。ASML 瞬间失去了精神。ASML 要做的就是用好这些家伙时期更加精确。
荷兰ASML 也不差钱。台积电，三星，英特尔，海力士等这些赫赫有名的半导体巨头。都是荷兰ASML 的股东。他有一个不成文的规定，只有合作伙伴才能获得优先供货权。因此，荷兰ASML 每年只能生产十几台EUV 光刻机，这些光刻机大部分被合作伙伴抢走了。
光刻机究竟有多难？
国内目前做光刻机比较好的就是上海微电子设备装备有限公司。他目前水平在90nm 。而今年预计会能够突破到28nm水平。再来看看光刻机巨头荷兰ASML 。早几年他做的EUV 光刻机就可以生产7nm工艺芯片。现在台积电用他的机器都能生产5万m工艺芯片。
ASML 自己能够做出顶尖光刻机？其实并不是他自己努力，一个顶尖光刻机需要数10万个顶尖部件。需要来自全球几千个供应商提供各种相应的技术支持。ASML 在这些顶尖技术和部件之上进行相应的整合，才有了现在顶尖的EUV 光刻机。
就以这个镜头为例来说，德国蔡司公司是荷兰的大股东之一。他给荷兰ASML 公司提供顶尖镜头用于光刻机的生产，蔡司的技术得到了几十年，甚至可以说百年的沉淀。才有如此顶尖的镜头水平，当然，这是对我们不出售的。
光刻机。为人类智慧集大成的产业究竟难在哪里？
作为人类工业以及制造业上面的一颗明珠，光刻机可以说是人类智慧的集大成的产业。还有的人说光刻机是外星科技的产物，其实这个就有点过度了。光科技依旧是人类长期的积累而制造出来的。
曾经有过内的科研团队去荷兰ASML 公司考察，当时的负责人说。我们即便是将图纸给你们拿出来，你们也不一定能够做出来，虽然说这句话说的有一些不切实际。但是制造光刻机的事情从来都不是简单的事情。
有很多人好奇说光刻机的售价是多少，其实目前一台先进的光刻机售价最低也在七千万美金左右。而且能够生产的数量是非常少的。可能全球也仅仅只有个别的企业能够进行生产。荷兰ASML 公司所生产的光刻机能够达到7nm支持的工艺制程。而中国的上海微电子能够生产的芯片目前还都是90nm支持的芯片。这其中的差距保守估计也有将近15年的差距。
来自各个不同国家的先进技术。大家不要以为光刻机只是荷兰ASML 公司能够生产出来的芯片。这里面最重要的就是来自美国的光源，德国的蔡司镜头，瑞士的轴承等等。可以说，荷兰公司将这些更加精密的仪器完美的组合在一起。
中科院的5nm激光光刻是否意味着摆脱了EUV ？众所周知，半导体制造领域想要生产5nm芯片。必须要使用荷兰ASML 的EUV 光刻机。而荷兰是全球唯一能够量产EUV 光刻机的公司。我国大陆至今没有一台EUV 光刻机，可以说是一项卡脖子的技术。
中科院的弯道超车？
最近，中科院研发成功了新型的5nm 超高精度激光光刻加工方法。
光刻机最重要的指标就是光刻分辨率波长越短，数值孔径na越大。光刻精度就越高。荷兰ASML 的EUV 光刻机，从之前的193nm波长变成了13.5nm波长的EUV 极紫外光。
中科院的5nm光刻技术，采用了完全具有自主知识产权的激光直写设备。利用激光与物质的非线性相互作用。提高了加工分辨率。可以制备5nm线宽的工艺。
距离量产任重道远。
中科院发布的最新研究成果之后，就被各种媒体热炒。大有取代荷兰ASML的EUV 光刻机的趋势。从中科院发表的论文里，没有提到光刻机的字眼，也没有强调这种技术用来生产半导体芯片。这些天，中科院也在辟谣，就跟前两年的10nm 新闻一样。
目前我国最先进的光刻机是上海微电子的。消息称，上海微电子已经突破了26nm工艺制程的光刻机。预计明年量产。然而距离河南的差距依然很大。至少有15年的差距。上海微电子也仅仅是系统集成商，关键零部件来自于外来。很多超高精密的仪器，光源，计量设备对我国是禁运的。因此只能依赖国内供应商。
总之，光刻机已经成为一个高度垄断的行业。荷兰ASML 几乎垄断了所有的高端光刻机市场。台积电三星，英特尔，海力士形成了利益共同体。随着我国在光刻机领域的深入研究，必定有更多的研究成果。同时，我国在碳基芯片领域也有所突破，有望代替现在的硅基芯片。